设备机架制作中抛光工艺原理及分类

2023-03-03 03:01:09 来源：互联网分类：五金知识

　设备机架制作中抛光工艺是利用物理机械或化学物质来下降表层粗糙度的工艺。抛光技术主要应用于精密机械和光学行业。抛光后的工件表层光滑，反光好。抛光后工件厚度下降，容易划伤，表层需要用专用清洗剂清洗。

　　一、设备机架制作中抛光工艺原理

　　设备机架制作化学抛光原理

　　化学抛光是通过有规律的溶解来抛光金属表层的过程。在化学抛光过程当中，钢件表层不断形成钝化氧化膜和氧化膜，前者比后者更强。由于表层微观结构的不一致性，表层的凸面部分优先溶解，且溶解速率高于凹面部分。此外，溶膜和成膜总是在同一时间进行，但速度不同。因此，钢件的表层粗糙度可以被拉平，从而获得光滑明亮的表层。抛光可以填补表层气孔、划痕等表层缺点，提高抗疲劳和耐腐蚀能力。

　　设备机架制作电化学抛光原理

　　电化学抛光又称电解抛光。电解抛光是将工件抛作阳极，不溶金属作阴极，两极同时浸入电解池中，通过直流电产生挑选性阳极溶解，使工件表层亮度增加，达到镜面效果。

　　二、设备机架制作中抛光工艺分类

　　设备机架制作机械抛光

　　机械切削、抛光是依靠材料表层塑性变形去除后通过抛光去除凸面部分的光滑表层的方法，常用的物品有油石、毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如固体表层的旋转，可以使用转台等工具，表层质量高的可采用超碾磨法。超精抛光是利用专用碾磨工具，含有碾磨抛光液，压在工件表层进行加工，进行高速旋转运动。采用该工艺可获得Ra0.008μm的表层粗糙度，是所有抛光方法中表层粗糙度高。这种方法常用于光学透镜模具。其优点是平整性好，被加工零件亮度高。

　　设备机架制作化学抛光

　　化学抛光是让材料在化学介质表层的微观凸部分优先溶解凹部分，从而获得光滑表层。该方法的主要优点是不需要复杂的设备，可以抛光复杂形状的工件，可以同时抛光多个工件，效率高。其优点是加工设备投资少，复杂件可抛，速度快，效率高，耐腐蚀性好。

　　设备机架制作电解抛光

　　电解抛光的基本原理与化学抛光相同，都是通过挑选性溶解材料表层微小突起的部分，使表层光滑。电化学抛光过程分为两个步骤:(1)宏观平整溶解产物扩散到电解液中，材料表层变得粗糙而减少，Ra>1微米。(2)弱光阳极化，表层亮度增加，Ra<1微米。其优点是镜面光泽度长，工艺稳定，污染少，成本低，耐腐蚀性好。

设备机架制作中抛光工艺原理及分类