离子束加工的分类

2023-04-09 06:52:11 来源：互联网分类：电气知识

离子束加工的物理基础是当离子束撞击材料表层时发生的冲击效应，溅射效应和注入效应。通常分为以下四类：

离子束加工的分类：

离子蚀刻

当使用能量为0.1-5 keV，直径为十分之几纳米的氩离子轰击工件表层时，这种高能离子传递的能量高于了原子（或分子）之间的键合力。）工件表层上的）和材料表层上的原子（或分子）逐一溅射出来，以达到加工目的。这种加工本质上是原子级切割过程，通常也称为离子铣削。

离子蚀刻可用于加工空气轴承凹槽，冲孔，加工超薄材料和超精密非球面透镜，也可用于蚀刻诸如集成电路之类的高精度图案。

离子溅射沉积

使用能量为0.1-5 keV的氩离子轰击由某种材料制成的靶材，然后将靶材的原子击落并沉积在工件表层上以形成薄膜。实际上，该方法是涂覆过程。

离子束加工

离子镀

一方面，离子镀将靶材发射的原子沉积到工件表层上，另一方面，离子镀层还会有高速中性粒子撞击工件表层，以增强涂层与涂层之间的结合力。

该方法适应性强，成膜均匀致密，韧性好，沉积速度快，目前已被广泛使用。

离子注入

能量为5〜500keV的离子束用于直接轰击工件表层。由于离子能量非常大，因此可以将离子钻入要处理的工件材料的表层，并改变表层的化学成分，从而改变工件表层的机械和物理性能。

该方法不受温度，要注入的元素和粒径的限制，并且可以根据不同需要注入不同的离子（例如磷，氮，碳等）。所注入的表层元件具有良好的均匀性和高纯度，并且可以控制所注入的颗粒的数量和深度，但是设备成本高，成本高并且生产率低。

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