霍尔离子源的主要特色

2024-07-05 10:21:10 来源：互联网分类：工业机械知识

　　霍尔离子源用于在真空镀膜过程当中通过离子轰击清理基板，并在沉积过程当中传递离子轰击能量输送。

　　广泛应用于：增透膜、玻璃镀膜、光纤、高镜、热/冷镜、低漂移滤光片、带通滤光片、在线清洗、类金刚石积碳等。

　　可改善膜的生长，优化膜的结构，增加涂层的一致性和重复性，低温高速涂层，去除工件表层的水和碳氢化合物，增加膜密度，下降低内应力，去除结合力弱的分子，反应气体活性增加，薄膜成分易于控制。

　　主要特征：

　　霍尔离子源可满足辅助镀膜工艺要求，其突出特色是小型化、结构紧凑、拆装方便。在制造高质量光学薄膜时，有助于提高薄膜的附着力、密度、吸收率和折射率。

　　该离子源电源结构简单，可实现辅助镀膜所需的大面积均匀离子束电流。单源可满足600mm-1600mm镀膜机的离子束辅助镀膜需求。

　　结构先进：

　　充分借鉴国内外先进霍尔离子源的优点，具有独特的水冷密封结构。经过多次长期实验，证明该离子源在大等离子束流下能长期稳定工作。

　　能在高温环境下长期可靠工作：

　　在通常的镀膜过程当中，工件需要被加热到非常高的温度，整个真空室内的温度都非常高。该离子源良好的冷却系统可以保证离子源在300℃的高温环境下长期正常运转。

　　等离子束电流大：

　　为避免对基材造成损伤，需要使用低能大束流等离子进行辅助镀膜。过去，国内使用的束流大多很小(<1.5A)，难以达到预期的效果。

　　空间均匀性强：

　　由于磁路和放电区结构的独特设计，以离子源轴为中心的30度锥体内等离子态强度的均匀性可以保持在±20%以内。

　　完全适用于反应气体：

　　在离子束辅助反应沉积工艺中，通常需要使用氧气或氮气与蒸发的薄膜材料发生反应，以沉积所需的薄膜。在这个过程当中，提高反应气体的活性和能量对于形成高质量的薄膜至关重要。在完全通入反应气体使其电离的情况下，离子源可以正常运转而不会中毒。

　　安装方便，维护简单，运行成本低：

　　这种离子源的安装非常简单，耗材只有灯丝，日常维护工作主要是更换灯丝。

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