项目

M4

检测基体

多基体

光学系统

帕型-龙格结构

光室结构

充氩循环方式

波长范围

165-580nm（可扩展）

光栅焦距

300mm

光栅刻线

3600条/mm

探 测 器

多CMOS检测器

光源类型

可编程脉冲数字光源

仪器尺寸

714*558*270

仪器重量

40Kg

应用领域：冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。

检测基体：铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。

主要技术参数：光学系统：帕型）-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统；

波长范围：170nm~580nm

焦距：400mm

探测器：高性能CCD阵列

光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）

放电频率：100-1000Hz

放电电流：400A

工作电源：220VAC 50/60Hz

仪器尺寸：720*860*500

仪器重量：约100kg（不含真空系统）

检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右

电极：钨材喷射电

光学恒温：34℃± 0.3℃

氩气要求：99.999％

氩气进口压力：0.5MPa

氩气流量：激发流量约3.5L/min

工作温度：10℃～35℃

工作湿度：20％～85％

分析间隙：真空软件自动控制、监测

智能数字激发光源

全数字化智能复合光源DDD技术，带来优越分析性能。

紧凑的设计及半导体控制技术，使得光源具有较好的稳定性、更强的可靠性。

高能预燃技术（HEPS),激发参数调整，充分满足不同基体、不同样品以及不同分析元素的激发要求。

全新立式全谱光谱采用标准的设计和制造工艺技术，采用全数字技术，替代庞大的光电倍增管（ＰＭＴ）模拟技术，采用真空光学室设计及全数字激发光源、领先的ＣＣＤ检测器，高速数据读出系统，使仪器具有高的性能、低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。

特点

√ 快速合金牌号鉴定

√ 检测时间只需要一秒

√ 金属分类的理想选择

√ 检测材料内各类元素的含量及牌号判定(PMI)

√ 无辐射, 低维护成本

√ 优势是测Li, Mg, Al, Si