一、核心特性
化学惰性
耐受强酸（浓硫酸、氢氟酸、王水）、强碱及有机溶剂（如丙酮、DMF），几乎无化学反应14。
表面能低，抗吸附性强，避免样品残留或交叉污染14。
高纯度与低本底污染
金属离子溶出率极低（如铅、铀＜0.01ppb），满足半导体级（G5级）纯度要求14。
无析出杂质，适用于超痕量分析（如ICP-MS、同位素检测）45。
透明性与机械性能
半透明材质便于实时观察柱内流体分布和填料状态14。
柔韧性优于玻璃，抗压性良好，但长期高压下需注意变形风险15。
二、典型应用领域
半导体与电子行业
光刻胶、蚀刻液（氢氟酸/HNO₃）的超纯化，确保芯片制程中纳米级杂质控制48。
电子级溶剂（如异丙醇、PGMEA）的深度过滤，颗粒物控制至Class 0.1级45。
分析化学
色谱分离：作为离子色谱（IC）、高效液相色谱（HPLC）的保护柱或分离柱，适配强腐蚀性流动相15。
动态吸附实验：通过多柱串联（阳离子→阴离子→吸附树脂）优化杂质截留效率4。
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