贵阳

华诺mask掩模版,科研高精度精密电极蒸镀掩膜板

500元2022-12-06 08:00:56

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信息详情

本公司承接各种图案定制,客户能提供包含尺寸的CA设计图。如果画图实在有困难,我们可以根据客户描述来绘制,同时我们还能对客户的掩膜版设计提供一些建议。

激光加工掩膜版主要有以下特的优点:

1、生产效率高,质量可靠,经济效益。

2、激光加工过程中无“”磨损,无“切削力”作用于工件。

3、可以对多种金属、非金属加工,特别是可以加工高硬度、高脆性及高熔点的材料。

4、激光束易于导向、聚焦实现作各方向变换,极易与数控系统配合、对复杂工件进行加工,因此它是一种极为灵活的加工方法。

5、无接触加工,对工件无直接冲击。

6、热影响区小,工件热变形小,后续加工量小。

光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。

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