本设备是一款小型电阻蒸发镀膜仪，主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，也可整机放置于手套箱内，对实验室供电要求低；该系列设备主要部件采用进口或者国内优的配置，从而提高设备的稳定性；另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。

目前该设备配3组电阻蒸发源（可兼容金属与有机蒸发），一台2000W直流蒸发电源，主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、有机薄膜等。

2.主要技术参数

2.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接；

2.2 样品台尺寸：可拆卸式，尺寸60×60mm，旋转：0-20r/min可调；

2.3 真空系统：机械泵（TRP-12,3L/s）+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)；GDC-25b电磁挡板阀；

2.4 极限真空：8.0×10-5Pa；

2.5 真空抽速：大气～8×10-4Pa ≤ 30min；

2.6 真空测量：全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa；

2.7 蒸发源：3组电阻蒸发源，3组间可切换，源间有防污板；

2.8 蒸发电源：直流蒸发电源1台，0 W～2000W连续可调，供3组蒸发源切换使用；

2.9膜厚控制系统：进口Inficon SQM-160单水冷探头，控制精度0.1Å；

2.10控制方式：PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障自检、保养维护提示等功能；

2.11设备外形：L53.5cm×W52cm×H75cm机电一体化机架，预留1个KF40和一个CF35法兰接口；

2.12 设备供电总功率≤2KW，220V，单相三线制（一火一零一地）；

2.13 冷却循环系统：水压0.2～0.4MPa，水温10～25℃，给设备相关需水冷

部件提供稳定的制冷水；

4.设备主要优势

4.1 实用性：

4.1.1 设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，可以放置于实验桌面上即可；

4.1.2 通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；

4.2 方便性：

4.2.1 设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁性；

4.2.2 设备可将主机置于手套箱内，水、电、气等通过4个KF40接口接到手套箱外，与手套箱的对接灵活方便；

4.2.3 设备工作电压为220V，整机功率小于2KW，对实验室的供电要求低；

4.3 稳定性：

4.3.1设备主要零部件采用进口或国内知名品牌，保证了设备的质量及稳定性；

4.4 先进性：

4.4.1 独立开发的PLC+触摸屏智能操作系统，具有智能控制模式和调试维修模式；

4.4.2 控制系统具备漏气自检与提示功能，当设备漏气时，系统会自动提示设备漏气，以便用户进行检漏，保证设备正常稳定运行；

4.4.3 控制系统具备保养维护提示功能，当设备运行达到一定时长，系统会自动提示设备需要维护保养，以便用户及时进行维护，保证设备正常稳定运行；

4.4.4 控制系统具备通讯故障自检功能，系统对分子泵、溅射电源、真空规、电机、流量计等部件的通讯进行自检，如果某个部件出现故障，可以按照系统中的各部件故障查询办法进行查询，及时确认故障原因，保证设备安全；

4.4.5 控制系统具备数据记录与导出功能，控制系统记录设备的操作记录及镀膜过程数据，可以在系统中查看这些数据，也可以用U盘导出这些数据；

4.4.6 该系统具备三个等级级密码保护功能，不同等级不同使用权限，确保设备的安全性和数据的保密性；