500元2022-12-09 08:00:00
1，原材料：
原材料生产出的掩模板平整度高线条笔直，剌。华诺精密经营掩模板多年，建立完整的原材料进货渠道。
2，加工设备：
根据客户产品的精度要求和图形形状，选择相匹配的设备进行生产，确保满足客户要求。华诺精密生产设备齐全，各设备工艺之间能配合。
3，生产技术：
再好的设备都是人来操作的，机器各参数之间的调配，软硬件之间的配合，都是技术的，同样的机器交给不同技术的厂家，生产出产品质量完全不一样的。华诺精密有着7年的掩模板生产经验，对机器硬件的调试和软件的更改有着一套完善的技术储备。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
