500元2022-12-11 08:22:32
华诺激光长期供应高精度电极掩模板加工制作,不锈钢掩膜板,精密金属非金属掩模板制作,非金属掩膜板制作,微孔掩膜板制作,光刻直写掩膜板制作 金属和非金属掩膜板制作加工,掩膜板小孔可做到50微米,精度也可做到20微米,掩膜板刻线,小线宽可做到20微米,价格实惠,量大从优。
掩膜版材料及厚度的选取:
材质的选取方面,我们选用高韧性的SUS304 H不锈钢材料,这样做出来的掩膜版不但精度高,而且表面光滑,产品不易受弯折而变形,经久耐用,同时还能够让掩膜版板与器件保持很紧密的贴合,减少阴影效果。
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。