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华诺mask掩模版,金属狭缝光罩 MASK

500元2022-11-19 08:04:43

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信息详情

掩膜版切割主要应用行业有LED芯片制造,触摸屏,LCD,消费类电子,半导体,MEMS,照明,等行业,以及科研、航天航空、电子、机械、光学、石油、化工、汽车、工艺品等行业。

掩膜版材料及厚度的选取:

材质的选取方面,我们选用高韧性的SUS304 H不锈钢材料,这样做出来的掩膜版不但精度高,而且表面光滑,产品不易受弯折而变形,经久耐用,同时还能够让掩膜版板与器件保持很紧密的贴合,减少阴影效果。

本公司承接各种图案定制,客户能提供包含尺寸的CA设计图。如果画图实在有困难,我们可以根据客户描述来绘制,同时我们还能对客户的掩膜版设计提供一些建议。

掩膜版激光加工产品技术:

1,原材料:

原材料生产出的掩模板平整度高线条笔直,剌。华诺精密经营掩模板多年,建立完整的原材料进货渠道。

2,加工设备:

根据客户产品的精度要求和图形形状,选择相匹配的设备进行生产,确保满足客户要求。华诺精密生产设备齐全,各设备工艺之间能配合。

3,生产技术:

再好的设备都是人来操作的,机器各参数之间的调配,软硬件之间的配合,都是技术的,同样的机器交给不同技术的厂家,生产出产品质量完全不一样的。华诺精密有着7年的掩模板生产经验,对机器硬件的调试和软件的更改有着一套完善的技术储备。

金属掩膜板:

在AMOLED制作工艺中,蒸镀工艺是非常重要的,直接决定产品的良率,而金属掩膜板又是非常重要的蒸镀制具,其开口的精度和位置精度直接决定了AMOLED生产的品质。金属掩膜板根据其用途又可分为两类:OPEN MASK和FINE METAL MASK(FMM)。OPEN MASK作为普通蒸镀制具,决定显示屏的尺寸和在基板上的位置。FMM作为彩色蒸镀制具,更是决定了显示画面的质量。

光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得,常用加工设备为直写式光刻设备,如激光直写光刻机、电子束光刻机等。

掩膜版应用十分广泛,在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成电路)、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微机电系统)等。

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