刻蚀机实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。随着微制造工艺的发展；广义上来讲，刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法。 刻蚀机（Etching Machine）和光刻机（Lithography Machine）是半导体制造过程中常用的两种设备，它们在材料处理和图形刻写方面起到不同的作用。
黄少龙
薛红
