铈铵制备绝缘薄膜

铈铵制备绝缘薄膜：利用化学气相沉积等技术，铈铵可制备出高质量的氧化铈绝缘薄膜。这种薄膜具有良好的绝缘性能和热稳定性，能承受高温工艺过程，且与硅片表面有良好的附着力，可用于提高半导体器件的性能和可靠性。英文名Diammonium cerium(IV) nitrate
分子式：(NH4)2Ce(NO3)6·2H2O
分子量：584.23
CAS . :16774-21-3
外观性状：桔红色单斜晶系细小结晶，易溶于水，有潮解性，密闭保存。
工业级铈铵用途：用于电路板刻蚀剂、医药合成、化学试剂等行业。