500元2022-11-16 07:58:25
1，可以按设计人员的设计要求进行掩模板图形的任意更改，方便快捷成本低。
2，电极掩模板中小的缝隙可以达到0.03(30微米)，小线宽可做到0.015(15微米)。
3，位置精度高可达+/-0.003，解决一块产品需多层蒸镀，每层间的重复对位的位置精度。
4，材料厚度可由客户，华诺精密长期库存材料从0.03-0.10，能为客户提供快速稳定的服务。
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
